A corrida chinesa pelos semicondutores ganhou novo fôlego: pesquisadores da Universidade de Zhejiang apresentaram a primeira máquina de litografia por feixe de elétrons, chamada Xizhi. 
O anúncio é relevante porque o país está impedido de comprar os avançados equipamentos High-NA EUV da holandesa ASML devido às restrições impostas pelos EUA.
Apesar de não servir para produção em massa, a Xizhi alcança precisão impressionante de 0,6 nm, comparável às máquinas mais modernas da ASML. A limitação está na velocidade: ao contrário dos scanners EUV, que gravam padrões em toda a bolacha de silício de uma vez, o feixe eletrônico escreve ponto por ponto, demorando horas para finalizar um wafer. Isso a torna útil em laboratórios, no desenvolvimento de protótipos e até em aplicações militares, mas pouco viável para grandes fábricas.
Mais do que uma máquina, o projeto simboliza a resposta da China às sanções. O que deveria frear o avanço acabou estimulando investimentos em soluções próprias. Mesmo que não substitua o DUV ou o EUV em escala industrial, a Xizhi dá ao país ferramentas e conhecimento para explorar novas arquiteturas de chips e reduzir a distância tecnológica em relação ao Ocidente.
No momento, a indústria chinesa ainda depende fortemente das máquinas DUV para sua produção principal. Mas o surgimento da Xizhi mostra que a lacuna está diminuindo e que o futuro da microeletrônica será menos concentrado e mais competitivo, com cada inovação mexendo no equilíbrio da cadeia global de suprimentos.
1 comentário
ótimo pra pesquisa, mas nunca vai acompanhar a velocidade da ASML rs